TCB面源黑体用于典型温度范围为0℃至100℃的小型50x50mm发射面的TCB-2D黑体被用作测试热像仪的DT/MS系统的模块。具有更大发射面和其他温度范围的黑体都可以作为其他各种应用的单独模块提供。Inframet可以提供高达500x500mm的发射面的TCB黑体（型号TCB-2oD）。
但是，应该注意的是，典型的小黑体TCB-2D/TCB-4D黑体与TCB-12D/TCB-2oD之间存在很大差异。后者的黑体要大得多，需要更大的功率，升温更慢，更昂贵。因此建议您选择自己合适的发射面尺寸即可。 光电系统应用于科研，守护安全的技术盾牌。上海光电测试系统性能特点
TFEV测温仪测试系统用于检测发热筛查用测温仪。TFEV测试的概念是基于IEC80601-2-59标准中规定的“人体发热筛检测温仪的基本安全性和基本性能的特殊要求”。TFEV是一个模块化系统，可以工作在两种模式：A)手动可调节尺寸的高精度黑体B)电动图像投影系统，能够投射一些参考目标的图像，其温度和大小可变。黑体是模拟人体的不同部位(通常是眼内角或前额)，用于测试热敏相机。黑体通常置于被测人体所在平面位置，和测温仪的外部黑体(被测系统的一部分)在实际工作中应该也在该平面上。TFEV是由一系列模块组成的模块化系统:2.黑体适配装置4.MRW-8电动靶轮6.靶轮用一组6个四杆靶标(MRTD测量)8.笔记本电脑10.MB1机械件12.TCB控制程序TYFEV的重点是TCB-4D黑体。它是超高精度面源黑体，可以非常准确地模拟人体的相同发射率。上海光电测试系统性能特点Inframet DT 热成像光电测试系统，精细分析，助力医疗行业技术革新。
在国际市场提供的典型面源黑体（包括Inframet提供的TCB/MTB黑体）被优化，以模拟在常用的红外辐射光谱带中的黑体目标：约1μm至约15μm。这种黑体的发射面的高发射率是通过温度受控的金属板，与其涂覆的高吸收性涂料薄层来实现。由于这种黑体的发射率在波长约0.1mm处开始下降，并且在波长超过约1mm变得非常低，所以典型的面源黑体不能用于模拟THz带（0.1mm至1mm）和亚THz带（1mm至10mm的波长）的黑体目标温度。在典型的红外黑体中使用的高辐射率涂层对于太赫兹光学辐射而言变得部分半透明，特别是在长波处大约0.5mm。由于以下几个原因，太赫兹区域黑体的设计是一个技术挑战：a）需要THz/短波频谱带中高吸收率涂层的发射体以确保高发射率；b）由于THz/微波成像仪的低分辨率，所以需要大面积的黑体；c）需要很高的温度均匀性、温度稳定性和准确度，以便能够对THz/微波传感器进行准确校准。
ST测试系统计算机化测试系统，半自动测试短波红外相机的重要参数；1）ModeI：分辨率，MRC（蕞小可分辨对比度），MTF（调至传递函数），Distortion（畸变），FOV（视场），灵敏度，SNR（信噪比），NEI（噪声等效输入），FPN（固定图形噪声），non-uniformity（非均匀性）等；2）ModeII：MRTD（蕞小可分辨温差，MDTD（蕞小可探测温差），MTF（调至传递函数），NETD（噪声等效温差），FPN（固定图形噪声）等；3）ModeIII：（MeanDetectivity（平均探测率），NoiseEquivalentIrradiance（噪声等效辐亮度），噪声，动态范围等。光电测试，助力影视制作，精确控制灯光效果。
NVS夜视设备多功能测试系统是一个模块化的测试系统，可测试长程夜视瞄准设备，同时支持测试短程夜视镜及双目夜视镜。因此NVS测试系统是一个多功能测试系统。NVS测试系统采用模块化设计，包括一组可切换的透射式光管、可移动的光源和一组靶标等模块。NVS测试系统的测试过程是基于MIL系列标准的建议。NVS测量系统投影一个标准靶标的图像到水平固定的被测夜视仪。通过调节两个旋钮，操作者可以控制透射到被测量夜视仪光的强度和靶标的类型。被测量器件生成一个畸变的标准靶标的图像。通过人眼观察或者借助测量工具如亮度计来评估这个畸变的图像，得到被测量器件的重要参数。INFRAMET LAFT 热成像光电测试系 统助力科研，精细测量技术参数无忧。上海光电测试系统性能特点
Inframet MS多传感器测试系统，助力石化行业安全生产。上海光电测试系统性能特点
Inframet生产的离轴反射式平行光管采用垂直结构，平行光管的焦平面位于反射镜垂直方向的上方。这种类型的平行光管实现了测试系统的简单化结构设计（只需较小、较窄的光学平台）。而且，垂直结构的平行光管更为先进之处在于系统用于热像仪的测试时，垂直结构的黑体温度的均匀性要优于使用相同模块的水平结构。
Inframet使用三个等级的离轴反射镜面：SR（标准分辨率）-制造精度PV不低于λ/2在λ=630nm。HR（高分辨率）-制造精度PV不低于λ/6在λ=630nm（典型λ/10）。UR（超高分辨率）-制造精度PV不低于λ/10在λ=630nm。SQ（极高分辨率）-制造精度PV不低于λ/14在λ=630nm。 上海光电测试系统性能特点
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